台积电3纳米制程技术已经进入量产，有半导体专家预估，台积电3纳米良率最高可达到80%，大赢竞争对手三星良率只有约10%~20%，但外媒Tom's Hardware列出3点分析，强调两者良率无法这样比较，应该保守看待台积电良率。

半导体行业分析师和专家估计，台积电目前3纳米良率可低至60%至70%，或高达75%至80%，对于首批来说良率相当不错，金融分析师Dan Nystedt则在推特上表示，台积电3纳米良率与早期的5纳米相似，良率最高可达到80% ；相比之下，三星3纳米良率只有 10%~20%，且每片品质落差很大。

报导指出，台积电当前的3纳米产量有以下3件事需要注意，首先是半导体专家预估良率80%，但我们不知道是针对台积电18厂运行的商用晶圆计算，或是针对包含台积电客户各种IP的商用和测试晶圆计算；其次，除了台积电和客户之外，没有人知道目前商用晶圆或测试晶圆的确切良率数字；第三点则是，如果只考虑商业晶圆，目前采用台积电3纳米的设计数量非常有限。

报导提到，台积电开发先进技术时，同时会考虑到客户苹果的要求，所以初始良率80%其实不足为奇；而且对于为大众市场产品提供动力的晶片来说，良率60%可能不算太高。

报导分析指出，台积电目前商业化生产的3纳米设计数量有限，加上良率数据是厂商、客户的商业机密，很难实际判断台积电3纳米良率是高还是低，三星也是如此，所以不应将两者良率如此比较。

来源：中时电子报